第一百六十一章 SOC上帝芯片问世!162(2 / 2)

他当初只交了两块光掩膜版怎么生产芯片,可没有交四块光掩膜版怎么去生产芯片。

两块和四块,这里面的门门道道如果没专人领路,一般人还真不一定琢磨得出来。

高永明派冯承铭过来,除了保证光掩膜版安全外,其实也想着让他去学学,四块光掩膜版怎么去生产soc上帝芯片。

要知道龙芯国际芯片工厂,可是有20纳米光刻机的。

两次多重曝光技术10纳米,四次是不是5纳米芯片了?

当然了。

这只是简单猜测。

况且那台20纳米光刻机,荷兰工程师也不会轻易让他们碰,最多就用用28纳米光刻机,前提还得有相应的图纸。

冯承铭淡然一笑道:“可以学习进步的机会,我肯定不会错过,林首席可不要吝啬教学啊。”

“教,国产联盟嘛。”

林天耸了耸肩道。

“哈哈,那就先谢谢了。”冯承铭心情大好。

两人的这番对话,让任国非、段勇平、陈永等企业老总不由得暗自吃惊。

冯承铭是谁?

帝都龙科院的顶级光刻院士!

据说他参与的光刻项目,无不是国家重点项目,是龙国为数不多的几位光刻领域院士。

听着两人的交谈,他们怎么感觉林天的光刻技术,是远远在冯承铭之上的?

难不成……

多重曝光技术……

几人想到了什么,内心掀起惊涛骇浪。

他们的目光不由得看向陈星的侧脸,好像在询问,这种人才总不可能是曲程介绍的了吧?

如果不是曲程介绍,那陈星是怎么把他招到麾下的?

救过他的命?

还是说,陈星真有大背景?

在任国非几人疑惑满天飞时,陈星直接无视了他们目光,而是看向冯承铭道:

“既然四块光掩膜版也到了,那我们就共同见证,这第一块soc上帝芯片的问世吧。”

话音刚落,冯承铭点了点头,连忙附和道:“那我们进去聊,正好可以让林首席教学教学。”

“那哥几个就进去吧。”

段勇平也招呼道。

陈永强压心中激动,同样招呼道:“没错没错,我们也别在这吹冷风了,进去工厂内部再说。”

现在他的嘴角比ak还难压,他实在太兴奋了。

无意淘来的48纳米duv光刻机,在这个时候派上用场,还能生产14纳米芯片,今晚最大受益人除了陈星就是他陈永了。

因为见证过28纳米的开天基带芯片生产,现在的48纳米光刻机在他眼里可是香饽饽,为此他这段时间也在想尽办法去淘光刻机,为国产联盟做贡献。

“那就走吧。”

林天率先移开脚步。

这几天为了教蓝绿厂工程师,他可谓是煞费苦心,都把这里当成自己家了。

好在,有一批人悟道了。

……

当陈星冯承铭等人走进工厂,林天轻车熟路地将众人领到了换衣室更换防尘服。

穿戴整齐,确保没有纰漏以后,他们带着清洁过后的皮箱走进了光刻机的洁净室。

“老总们好!”

“林首席好!”

蓝绿厂的光刻工程师们早早等候,他们早就知道,今晚会有大人物到来。

“不用客气了。”陈永摆了摆手,看向林天道:“林首席你看现在该怎么弄?”

林天没有急着回答他,而是看向陈星,征求同意道:“总裁,那我可要开始了?”

四块光掩膜版的多重曝光技术,如果一旦演示完成,很有可能让其他工程师学了去,他才会特意征求同意。

要是陈星摇头示意,他是可以留一手的。

然而陈星觉得没这必要,未来肯定还是要靠龙芯国际、蓝绿厂帮忙量产芯片的,多重曝光技术也算是让他们尝些甜头,巩固彼此之间的利益了。

“开始吧。”

陈星淡淡回应。

随着陈星点头,林天开始了他的光刻独秀。

利索打开冯承铭带来的皮箱,露出里面的四块光掩膜版。

因为考虑到表面有灰尘,生产前的第一步就需要清洗,紧接着才是区分光掩膜版型号。

四块光掩膜版不比两块的,它需要区分好顺序,不能出错,出错就相当于毁坏了一张硅片。

龙芯国际也没马虎,四块掩膜版都按照林天当初的要求,标注上的光刻序号。

当生产设备都调试完成,林天大手一挥道:“准备生产,硅片清洗烘干涂胶。”

不等蓝绿厂的工程师行动,冯承铭亲自拿硅片去清洗,并放入烘干的运送设备。

林天则是安装掩膜版,数次校准以后,他讲解道:“第一块光掩膜版可以随意放,因为它是地基,之后的三块光掩膜版,必须要做到每一步都要在预定精度范围,1纳米误差都不行。”

“明白了。”

“明白了。”

周围工程师纷纷应答。

在众人围观下,林天开始启动光刻机,进行第一次的曝光,在硅片上作画图案。

第一次曝光结束。

取出硅片蚀刻清洗,紧接着是第二次涂抹光刻胶,林天用上了第二台光刻机。

第二次曝光很明显,他比第一次专注了许多。

“第二次光刻不能用任何偏差,曝光的图案应该在第一次图案纳米图案的中间位置。”

“这就好比一条主干道,第一次我们是修了这个主干道,第二次就是在这个主干道的中间画上一条两边对称的线。”

没有技巧,全凭经验。

林天启动光刻机,进行第二次的曝光,让光刻胶疲软,紧接着继续用蚀刻溶剂清洗。

每次曝光、蚀刻都会在半导体硅片留下图案,一连四次的曝光让冯承铭等工程师看得目瞪口呆。

最后一次时,林天继续讲解道:“第四次曝光,不仅要进行光刻,还要进行离子注入,增加电导性,说白了,就是你们之前学的单次芯片生产步骤。”

“但重点是,我第三步是先刻画道路的左边,第四步,则是要刻画道路的右边,这样一来,完整的电路图案就显现了。”

简单讲述后,他不断用设备调整光掩膜版,当达到预定位置时,他再次启动光刻机。

光刻机在接收到启动指令后,立即就对12寸半导体,接近三百个芯片裸片进行曝光。

五分钟后。

半导体硅片被取出。

此刻所有人大气不敢喘,冯承铭接过硅片以后,亲自去切割检测参数性能。

当检测仪器显示,该裸片的纳米等级是14纳米,并且电路图完美运行那刻,他强压心中的激动,郑重宣布道:

“成了!”

“soc上帝芯片成了!!!”

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